SPIE Advanced Lithography + Patterning
Bei SPIE Advanced Lithography + Patterning treffen sich Fachleute, die Halbleiterstrukturen zuverlässig auf den Wafer bringen: Lithografieingenieure, Resistentwickler, Messtechnikexperten und Anlagenbauer. Das Symposium in San Jose verbindet Fachvorträge mit einer Ausstellung zu Materialien, Elektronenstrahlsystemen, Waferbehandlung und Präzisionskomponenten. 2026 kamen rund 2.500 Teilnehmer und 80 Aussteller zusammen.
Zu SPIE Advanced Lithography + Patterning 2027- Turnus
- Jedes Jahr
- Ort
- San Jose McEnery Convention Center
- Veranstalter
- SPIE Europe
- Besucher (2026)
- 2.500
- Aussteller (2026)
- 80