SPIE Advanced Lithography + Patterning

SPIE Advanced Lithography + Patterning reúne a quienes convierten el diseño de un semiconductor en estructuras que se pueden fabricar de forma repetible: especialistas en litografía, resinas, metrología y equipos. El simposio de San Jose combina ponencias técnicas con una exposición de materiales, sistemas de haz de electrones, tratamientos de obleas y componentes de precisión. En 2026 participaron alrededor de 2.500 personas y 80 expositores.