SPIE Advanced Lithography + Patterning

SPIE Advanced Lithography + Patterning réunit les spécialistes qui rendent les motifs d’un semi-conducteur fabricables et reproductibles: ingénieurs en lithographie, développeurs de résines, experts en métrologie et équipementiers. À San Jose, le symposium associe communications scientifiques et exposition de matériaux, de systèmes à faisceau d’électrons, de traitements de wafers et de composants de précision. En 2026, il a accueilli environ 2 500 participants et 80 exposants.